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12月6日,国际电子器件大会(International Electron Devices Meeting,简称IEDM)于美国旧金山正式举办。在本届大会上,来自中国机构的论文共计101篇入选,整体表现亮眼。其中,北京大学凭借21篇的入选数量,连续五年位居全球高校首位。而在产业界,国内DRAM领域的龙头企业长鑫存储同样表现突出,其两项重大技术成果获大会收录,入选论文数量在国内企业中位居第一。

IEDM 2025:中国半导体力量闪耀全球顶级学术舞台
IEDM创立于1955年,是半导体器件领域享有“奥林匹克盛会”盛誉的国际顶尖学术会议。该会议汇聚了全球学术界与产业界的最新研究成果,议题覆盖CMOS技术、先进存储、传感器、功率器件等关键领域。
IEDM2025的主题是“FET 100 年:塑造设备创新的未来”。业界普遍认为,在当前技术迭代加速、AI发展催生海量存储需求的时代背景下,IEDM 2025不仅展现了学术前沿,更成为洞察未来存储技术演进与产业格局变化的重要窗口。
本届IEDM大会,长鑫存储在3D FeRAM与新型多层堆叠DRAM领域实现了双项突破。长鑫存储首次实现单片集成的堆叠式铁电存储(3D FeRAM),提出两层水平堆叠的1T1C三维架构,配备双栅极多晶硅选择晶体管,展现出优异的性能与耐久性,为低功耗非易失性存储奠定基础。
此外,长鑫存储还展示了全球首个BEOL集成的多层DRAM架构,基于IGZO沟道晶体管完成实验验证,并在优化性能与可靠性方面取得突破,为未来高性能DRAM的发展开辟新路径。
长鑫存储以创新产品定义存储市场新格局
技术研发的积累,正在成为驱动产品快速迭代与推动市场持续拓展的核心引擎。当前,长鑫已构建涵盖DDR4、LPDDR4X、DDR5、LPDDR5X的全系列产品矩阵。今年10月,长鑫推出LPDDR5X系列产品,提供12Gb和16Gb两种单颗粒容量,最高速率可达10667Mbps,达到国际主流水平,较上一代LPDDR5提升了66%,同时可以兼容LPDDR5,功耗则比LPDDR5降低了30%。据了解,长鑫正在研发0.58mm超薄LPDDR5X芯片,量产后有望成为全球最薄的LPDDR5X产品。

标准存储领域,长鑫存储于今年11月正式发布其最新DDR5产品系列:最高速率达8000Mbps,最高颗粒容量24Gb,均达到国际领先水平。当前市场基准中,6400 Mbps代表服务器与高端PC的主流性能层级,而8000 Mbps则已迈入国际顶级性能梯队。
在内存容量上,长鑫存储在标准16Gb 颗粒以外,重点推出24Gb大容量颗粒,对于大规模数据中心具有显著优势,能在不占用额外物理插槽的前提下,显著提升系统的模型加载能力与多任务处理效率,满足数据中心快速扩容的刚需。
此外,长鑫基于其DDR5产品推出的UDIMM、SODIMM、CUDIMM、CSODIMM、RDIMM、MRDIMM、TFF MRDIMM七大模组,实现了对服务器、工作站到个人电脑的全场景完整覆盖,展现了与国际领先厂商同台竞技的实力。
据美国半导体行业协会(SIA)最新数据,2025年10月全球半导体销售额同比增长33%,达713亿美元,其中DRAM销售额同比飙升90%,行业景气度持续攀升。与此同时,长鑫存储正积极推进上市进程。行业人士指出,亮眼的行业数据为长鑫IPO提供了极具说服力的宏观背景,有望显著增强投资者对其未来成长空间与盈利潜力的预期与信心。
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